頭孢噻呋注射液膠體磨,頭孢噻呋注射液研磨分散機 混懸劑的質(zhì)量要求是：藥物本身化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定，有效期內(nèi)藥物含量符合要求；混懸微粒細微均勻，微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90，沉降后不結(jié)塊，輕搖后應(yīng)能迅速分散；混懸劑的粘度應(yīng)適宜，傾倒時不沾瓶壁；
頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備。
此次北京某客戶來SGN尋求理想的研磨設(shè)備，他們的項目急需上馬，但苦于國產(chǎn)膠體磨的效果達不到（粒徑在15微米以下，原始粒徑50微米）。按照SGN工程師的建議和設(shè)備選型，使用了GMSD2000/4高剪切研磨分散機，進行了30分鐘的實驗，實際效果完全符合客戶的預(yù)期！
頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備的研磨效果
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點：
1.膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大，效果越好）
2.膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
3. 物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
4.循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
頭孢噻呋膠體磨研磨分散設(shè)備 是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出最終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
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| 研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
| GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
GMSD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。