光刻膠拋光液超高速分散機

一、產(chǎn)品名稱關(guān)鍵詞：光刻膠去除劑研磨分散機，高剪切清洗液均質(zhì)機，氧化物拋光液研磨分散機，超高速三級乳化機

二、光刻膠去除劑

根據(jù)光刻膠下游應(yīng)用領(lǐng)域不同，公司光刻膠去除劑包括集成電路制造用、晶圓級封裝用、LED/OLED用等系列產(chǎn)品，是用于圖形化工藝光刻膠殘留物去除的高端濕化學(xué)品，通過將半導(dǎo)體晶片浸入清洗液中或者利用清洗液沖洗半導(dǎo)體晶片，去除半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物。

三、光刻膠去除技術(shù)

隨著集成電路技術(shù)的發(fā)展，其關(guān)鍵尺寸逐漸降低到亞微米。濕法蝕刻工藝因其各向同性蝕刻特性，越來越不能滿足需求，干法蝕刻工藝應(yīng)運而生。干法蝕刻工藝提供各向異性蝕刻形成金屬線（metal）、通孔（via）的同時，其離子束對光刻膠及鋁硅銅、鋁銅、氧化物非介電質(zhì)材質(zhì)進行轟擊，使其表面形成高度交聯(lián)的光刻膠殘留物，同時因氬氣轟擊反濺作用，側(cè)壁富含金屬材質(zhì)。干法灰化工藝的采用，使其殘留物中含有有機、無機氧化物及其金屬化合物。這就要求光刻膠去除同時具有有機殘留物、無機殘留物以及金屬交聯(lián)殘留物去除能力。

四、光刻膠剝離液氧化物分散問題

在制備光刻膠去除劑中，需要加入一些無機氧化物或金屬化合物，以粉體的形式加入液中，納米的細(xì)小顆粒與液體介質(zhì)充分接觸時候，粒子相互之間的團聚力導(dǎo)致粉體出現(xiàn)團聚現(xiàn)象，光刻膠去除劑的技術(shù)要求，需將氧化物粉體在液相中均質(zhì)打開，分散均勻。GRS超高速研磨分散機是我公司德國技術(shù)的主要產(chǎn)品，可很好的解聚，均質(zhì)，分散。得到更穩(wěn)定的懸浮液。

五、GRS超高速研磨分散機的優(yōu)勢

研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
研磨分散機的細(xì)化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。

六、高剪切研磨分散機

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

以下為型號表供參考：

光刻膠拋光液超高速分散機